IBM和三星共同开发VTFET芯片技术 手机充电一次续航2周
IT之家 12 月 13 日消息,在加州旧金山举办的 IEDM 2021 国际电子元件会议中,IBM 与三星共同公布了名为垂直传输场效应晶体管 (VTFET) 的芯片设计技术,该技术将晶体管以垂直方式堆叠,并且让电流也改以垂直方式流通,借此让晶体管数量密度再次提高之外,更
IT之家 12 月 13 日消息,在加州旧金山举办的 IEDM 2021 国际电子元件会议中,IBM 与三星共同公布了名为垂直传输场效应晶体管 (VTFET) 的芯片设计技术,该技术将晶体管以垂直方式堆叠,并且让电流也改以垂直方式流通,借此让晶体管数量密度再次提高之外,更